书目信息 |
| 题名: |
硅片的超精密磨削理论与技术
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| 作者: | 郭东明 , 康仁科 著 | |
| 分册: | ||
| 出版信息: | 北京 电子工业出版社 2019 |
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| 页数: | 240页 | |
| 开本: | 24cm | |
| 丛书名: | ||
| 单 册: | ||
| 中图分类: | TN304.1 , TN3 | |
| 科图分类: | ||
| 主题词: | 硅--磨削--理论 | |
| 电子资源: | ||
| ISBN: | 978-7-121-36300-9 | |
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| 硅片的超精密磨削理论与技术=Theory and technology of ultraprecision grinding for silicon wafer/郭东明,康仁科著.-北京:电子工业出版社,2019 |
| 240页:彩照,图;24cm |
| 国家科学技术学术著作出版基金资助出版 |
| ISBN 978-7-121-36300-9(精装):CNY128.00 |
| 本书在介绍单晶硅的基本性质与应用、集成电路制造工艺及硅片加工相关术语的基础上,全面系统地阐述了硅片的磨削方法与理论分析、超精密磨削机理、超精密磨削工艺、超精密磨床等,完整地总结了著者及其团队15年来在硅片超精密磨削理论与技术方面的研究成果。全书共9章,其中第1章介绍单晶硅的基本性质与应用,第2章介绍集成电路制造工艺及硅片加工相关术语,第3章介绍硅片的磨削方法与理论分析,第4章介绍硅片超精密磨削机理,第5章介绍超精密磨削硅片面型的测量与评价,第6章介绍超精密磨削硅片表面层质量及其检测和评价方法,第7章介绍硅片超精密磨削工艺,第8章介绍硅片超精密磨床,第9章介绍硅片磨削技术新发展。 |
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正题名:硅片的超精密磨削理论与技术
索取号:TN3/8
 
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